一点左右才将整个图纸录入计算机，随即进行仿真测试。
结果不出意外，仿真顺利通过。
整个研究所便进入了流片的正式工作中。
……
几日后，微电子厂崭新的微电中心。
新四车间内，原本的L-4生产任务暂停，转由其他车间进行生产。
陈工亲自在车间内进行协调，以迎接微电子所众人的流片试制。
如今整个芯片研制过程也越来越偏向后世。
早期的芯片流片还在微电子所的实验室内。
如今因为最新的步进扫描光刻机在微电子厂内，流片工作也协调后在厂里进行。
一如后世真正的芯片工程那般，研究所或者大公司只负责设计与仿真，真正的流片与排期生产则交由工厂。
专用的精密空调和空气系统已提前开启。
沈永健、卓邵文以及几位核心骨干同志已穿戴上严密的防尘服，站在庞大的步进扫描光刻机前。
“掩模版和测试硅片都已经准备就绪。”
陈工带着身后的钱田宝以及曹俊走近。
这次流片的前期准备工作，都是由钱田宝与曹俊二人负责。
二人脸上有些激动和兴奋，哪怕厂里光刻生产早已习惯，但像这种光刻的流片还是第一次。
且按照陈工前几天交代的，这次要是流片能成，之后微电子所的芯片方案流片都会陆续交由他们工厂负责。
“开始吧。”
沈永健透过防尘面罩，注视向钱田宝。
流片日后预备交给工厂，这次则由他亲自带钱田宝二人进行工作。
钱田宝点了点头，在主控台上输入了确认指令。
“晶圆传送开始。”
整台光刻机正式启动，随着机械结构的响动，一片涂覆着光刻胶的测试硅片被平稳地送入光刻机的真空腔室。
车间内特殊的黄光亮起，以防止光刻胶提前曝光，屋内空气机组的过滤单元传来极其微弱的白噪音。
“对准系统启动，激光干涉仪锁定。”
曹俊紧盯着屏幕上的数据。
屏幕上，十字对准标记在多次校准后最终完美重合。
“曝光开始。”
庞大的步进扫描光刻机内部，深紫外光源瞬间激发。
掩模台与硅片台在激光干涉仪的精准控制下，再次开始了平滑的同步反向扫描移动。
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