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第399章 运算速度小问题

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中的关键。

紫外激光脉冲设备暂且不提,我们用的是德国货,经过小幅度改装之后,这东西除了功率以外,其他数据都达标。

数控系统需要管的只是根据它的峰值进行适当的输出频率的调控,防止功率过高损坏设备零件。”

郑守义顿了顿,沉声道:“但电磁规范场就不好整了,100飞秒级的单个脉冲功率达10TW的激光脉冲,在轰击原材料后,大量的原料的分子键直接被破坏,形成碳正离子和碳负离子。

这个时候,电磁规范场在数控系统的控制下,会通过一种识别手段,精确地将这一部分带电碳离子规范起来。

然后,再通过二次激光脉冲的轰击,将它们轰成不同结构的完全由碳组成的分子,其中就包括了富勒烯C60。

当然,这个过程在激光脉冲的脉宽没有达到富勒烯C60的特定合成脉宽时,还会合成许多其他无用的碳分子。”

江博微微颔首,这些都是技术资料上比较基础的知识,他倒是听懂了,也没插话,继续往下听。

郑守义说:“而数控系统的识别单元对于碳离子的识别,非常耗费运算速度,尽管只是大致的识别和筛选,但仍旧要以每秒1Tflops,也就是每秒1万亿次来论。

原本,2nm工艺制程的芯片,集成电路较密集,整个芯片的面积就几十平方厘米,巴掌大小。

但因为换成了7nm制程的芯片,导致芯片的表面积增大了近二十倍,而且运转起来的性能浮动很大。

高速运算下,性能达到峰值后,实际的运算速度也下降了一大半,导致单位时间内识别和被规范的碳正离子和碳负离子数量不够,直接影响了C60分子的合成数量。

这是刚刚测验结束之后,我让人去分析找出的原因。”

“意思是,芯片的运算出现了问题?”江博愣了愣。

“是的。”

江博松了口气,笑道:“我还以为是什么问题呢,运算速度不是小意思么,既然运算速度不够,那就加大芯片中集成电路的刻画面积,增加芯片中晶体管的数量。

或者说,直接把多块芯片连起来一块儿用,现在这方面的技术不是已经成熟了吗,这样一来,运算速度不就能提升上去了吗?”

郑守义点了点头,道:“您说的,我们考虑到了,这样做的话,运算速度确实可以达标。

但刚才您没来的时候,我们经过验算发现哪怕运算速度达标,甚至是超标了,


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