正的领先，一直到2004年，才是利用193nm浸入式光刻机，做到了90纳米加工精度。随后，渐渐的突破65纳米、40纳米、28纳米，让非浸入式光刻机望尘莫及！
尤其是，28纳米时代，更是让非浸入式光刻机厂商绝望，甚至，已经放弃了继续研发投入，因为，不可能追赶浸入式光刻机。
也正是因为在关键性的技术节点上，选对了方向。所以，asml公司在21世纪初，独霸光刻机市场。
而佳能和尼康等等竞争对手，后来废了老大的劲，也很制造28纳米级别精度的光刻机，更何况，asml公司并未停止进步，反而不断将精度从28纳米之后，继续向20纳米、14纳米、12纳米、10纳米、7纳米，不断的提升。
其他的光刻机厂商，后来跟asml的差距逐渐被拉大到十年以上。除非等到asml专利过期，并且，未来工艺水平会长期停滞，否则，被技术差距被拉大到十年以上的程度的业界同行，基本没有可能抢回市场。
而这次推出的光刻机，虽然工艺水平仅达到0.5微米，给侵入式光刻机技术丢人了，但是，宁可杀鸡用牛刀，也不能让技术路线的主导权，被别的厂商占了坑。
侵入式光刻机问世后，一直是所有的对手都束手无策，只好眼睁睁的看着一家公司垄断市场。可见，这个技术路线在未来几十年来，代表着正确的方向。未来一直到5纳米时代，技术路线上都是在2002年的技术路线上修补。
甚至可预见的未来，纳米时代终结之前，这个技术是无敌的。只有纳米时代之后，进入理论上存在的皮米级工艺时代，可能才会换成其他的技术路径。但是1纳米还不知道什么时候能达到，更别说，终结了纳米之后的皮米时代，有生之年能不能来临还是未知数。
至少，在林棋和蒙欣所知的未来，人类对于材料的加工工艺精度，还未突破1纳米。
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