光性材料，在受到紫外线曝光后会发生化学反应，在硅片上形成图案。】
自动程序现在是由MOSS控制，江辰之前考虑到这次有不少领导来，就让MOSS加上了简单的解释功能。
否则，各位领导在那看着，他们在这闷头操作，领导们能看个啥？
【掩膜对准中……】
【为了确保掩膜上的图案与硅片的位置精确匹配，需要在这时校准掩膜。】
【紫外线曝光程序启动……】
【使用紫外线光源照射掩膜和涂覆了光刻胶的硅片，光刻胶在受到紫外线曝光后，会根据掩膜上的图案发生化学反应。】
【显影程序启动……】
【曝光后的硅片会浸泡显影液中，显影液会将未固化的光刻胶去除，只留下受光固化的部分。】
【清洗程序启动……】
【在显影后，硅片将会经过清洗，在清洗过程中，显影液和剩余的光刻胶残留物都将洗掉。】
【校对程序启动……】
【正在对完成光刻的硅片进行检查！】
【检查完毕！芯片已成功完成制作！】
随着MOSS的声音落下，光刻机一侧，突然伸出了一个小平台，平台上正静静躺着一个指甲盖大小的芯片！
芯片这就制作成功了吗？
不明真相的领导们站在原地，屏住呼吸，不知道现在该做些什么。
(本章完)
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