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第一卷 第5章 等离子能量微投影系统

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“哦,对对对,可能是叫法不一样!简单来说,光刻机就是制造芯片的关键设备,芯片知道吧?它是现代电子设备的核心,没有芯片,电脑、手机、智能设备全都玩不转。而光刻机就是用来生产芯片的工具。”林奕一拍脑门,恍然大悟。

“嗯,听起来是基础工业科技……”苏清宁若有所思地点了点头。

“基础可不简单!这个技术已经被国外卡脖子很多年了,我们国家现在最迫切的需求就是突破光刻机技术,尤其是高精度的。”林奕打断她。

苏清宁听完,眉头微微一挑,似乎对“卡脖子”这种说法有些不解,不过她并没有深究,而是若有所思地自言自语:“原来你说的是等离子能量微投影系统?”

“等离子能量微投影系统?”林奕重复了一遍,光是名字就让他觉得高大上。

“这是我们废土世界用来制造纳米级设备的核心技术。听你描述的功能,应该和你们的光刻机差不多。不过,我们的技术早已超越传统的物理光学成像,改用等离子能量进行三维投影制造。”苏清宁淡淡说道。

“这玩意儿听起来比光刻机牛多了吧!直接纳米级制造?三维投影?”林奕听得目瞪口呆,忍不住脱口而出。

“等离子能量投影系统的核心技术,不是传统的光学或者电子束,而是利用高能等离子体在纳米级材料上的能量激发。通过等离子场的精准调控,我们可以直接将三维投影的设计数据传递到材料上。整个过程不需要光刻掩膜或者多层曝光,效率远高于你们所谓的光刻机。”

“直接用能量场刻印?不用光刻掩膜?”林奕听得瞠目结舌。

果然是领先两个时代的科技呀,这是完全推翻了现有的工业基础重新创立的呀。

“我们用这种方法制造的芯片,理论上可以达到0.1纳米的极限精度。但实际上,为了性能与稳定性的平衡,我们通常生产的是0.5纳米到1纳米之间的芯片。以你们的技术标准,这已经是超越时代的水平了。”苏清宁继续说道。

“0.5纳米到1纳米……我们现在最先进的技术也才刚刚突破5纳米,听说3纳米的研发还在攻坚中!你的这个技术要是带到我们这里来,简直是降维打击啊!”林奕忍不住吸了口冷气。

“对我们来说,这种技术只是基础工业而已。如果你拿到这些资料,不仅要小心技术失控。”苏清宁冷冷瞥了他一眼。

“放心,我保证,只是作为技术研究参考,绝对不会乱用!”林奕连连点


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